原子层沉积 (Atomic Layer Deposition) 是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。随着芯片节点尺寸的不断缩小，传统沉积技术已达到其极限，在纳米级上沉积超薄层需要原子层沉积 (ALD) 技术，该技术可使材料一次沉积一个原子层。FITOK ALD 系列原子层沉积隔膜阀可应用于原子层沉积工艺，在半导体芯片制造的沉积工艺中输送精确剂量的气体，以实现先进技术所需的均匀气体沉积。
新闻中心
 产品分类联系方式
友情链接 |
新闻中心 半导体应用-FITOK ALD 系列原子层沉积隔膜阀(快讯!2022已更新)
发布时间：2021-06-23 浏览次数：37 返回列表
原子层沉积 (Atomic Layer Deposition) 是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。随着芯片节点尺寸的不断缩小，传统沉积技术已达到其极限，在纳米级上沉积超薄层需要原子层沉积 (ALD) 技术，该技术可使材料一次沉积一个原子层。FITOK ALD 系列原子层沉积隔膜阀可应用于原子层沉积工艺，在半导体芯片制造的沉积工艺中输送精确剂量的气体，以实现先进技术所需的均匀气体沉积。 |